Deskripsyon
Ang among kompanya naghatagSiC nga patongmga serbisyo sa proseso pinaagi sa pamaagi sa CVD sa ibabaw sa graphite, seramiko ug uban pang mga materyales, aron ang mga espesyal nga gas nga adunay carbon ug silicon mo-react sa taas nga temperatura aron makakuha og taas nga kaputli nga mga molekula sa SiC, mga molekula nga gideposito sa ibabaw sa mga giputos nga materyales, nga nagporma og usa kaSiC nga panalipod nga layer.
Pangunang mga Kinaiya
1. Pagsukol sa taas nga temperatura sa oksihenasyon:
ang resistensya sa oksihenasyon maayo gihapon kaayo bisan kung ang temperatura moabot sa 1600 C.
2. Taas nga kaputli: gihimo pinaagi sa kemikal nga pagdeposito sa alisngaw ubos sa taas nga temperatura nga kondisyon sa klorasyon.
3. Pagsukol sa erosyon: taas nga katig-a, compact nga nawong, pino nga mga partikulo.
4. Pagsukol sa kaagnasan: asido, alkali, asin ug organikong mga reagent.
Pangunang mga Espesipikasyon sa CVD-SIC Coating
| Mga Kabtangan sa SiC-CVD | ||
| Kristal nga Istruktura | Hugna sa FCC β | |
| Densidad | g/cm³ | 3.21 |
| Katig-a | Katig-a sa Vickers | 2500 |
| Gidak-on sa Lugas | μm | 2~10 |
| Kemikal nga Kaputli | % | 99.99995 |
| Kapasidad sa Init | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Temperatura sa Sublimasyon | ℃ | 2700 |
| Kusog sa Felexural | MPa (RT 4-punto) | 415 |
| Modulus sa mga Batan-on | Gpa (4pt nga liko, 1300℃) | 430 |
| Pagpalapad sa Init (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Konduktibidad sa kainit | (W/mK) | 300 |
Kagamitan







