CVD SiC coating

Pasiuna sa Silicon Carbide Coating 

Ang among Chemical Vapor Deposition (CVD) Silicon Carbide (SiC) coating usa ka taas nga durable ug wear-resistant nga layer, maayo alang sa mga palibot nga nangayo og taas nga corrosion ug thermal resistance.Silicon Carbide coatinggipadapat sa manipis nga mga sapaw sa lainlaing mga substrate pinaagi sa proseso sa CVD, nga nagtanyag labing maayo nga mga kinaiya sa pasundayag.


Pangunang mga bahin

       ● -Talagsaong Kaputli: Gipanghambog ang usa ka ultra-putli nga komposisyon sa99.99995%, amongSiC coatinggipamubu ang mga peligro sa kontaminasyon sa sensitibo nga mga operasyon sa semiconductor.

● -Labaw nga Pagsukol: Nagpakita sa maayo kaayo nga pagbatok sa pagsul-ob ug kaagnasan, nga naghimo niini nga perpekto alang sa mahagit nga mga setting sa kemikal ug plasma.
● -Taas nga Thermal Conductivity: Gisiguro ang kasaligan nga pasundayag sa ilawom sa grabe nga temperatura tungod sa talagsaon nga mga kabtangan sa thermal.
● -Dimensional nga Kalig-on: Nagmintinar sa integridad sa estruktura latas sa nagkalainlaing mga temperatura, salamat sa ubos nga thermal expansion coefficient niini.
● -Enhanced katig-a: Uban sa katig-a rating sa40 GPa, ang atong SiC coating makasugakod sa dakong epekto ug abrasion.
● -Smooth Surface Finish: Naghatag ug usa ka salamin nga sama sa paghuman, pagkunhod sa partikulo nga henerasyon ug pagpaayo sa operational efficiency.


Mga aplikasyon

Semicera SiC coatinggigamit sa lainlaing mga yugto sa paghimo sa semiconductor, lakip ang:

● -Paggama sa LED Chip
● -Paggama sa Polysilicon
● -Semiconductor Crystal Pagtubo
● -Silicon ug SiC Epitaxy
● -Thermal Oxidation and Diffusion (TO&D)

 

Naghatag kami og mga sangkap nga adunay sapaw sa SiC nga gihimo gikan sa taas nga kusog nga isostatic graphite, carbon fiber-reinforced carbon ug 4N recrystallized silicon carbide, gipahaum alang sa fluidized-bed reactors,STC-TCS converters, CZ unit reflectors, SiC wafer boat, SiCwafer paddle, SiC wafer tube, ug wafer carriers nga gigamit sa PECVD, silicon epitaxy, MOCVD nga mga proseso.


Mga kaayohan

● -Extended nga Kinabuhi: Mahinungdanon nga makunhuran ang oras sa pag-ubos sa kagamitan ug gasto sa pagmentinar, pagpauswag sa kinatibuk-ang kahusayan sa produksiyon.
● -Gipauswag nga Kalidad: Nakab-ot ang taas nga kaputli nga mga ibabaw nga gikinahanglan alang sa pagproseso sa semiconductor, sa ingon nagpadako sa kalidad sa produkto.
● -Nadugangan nga Episyente: Pag-optimize sa mga proseso sa thermal ug CVD, nga miresulta sa mas mubo nga mga panahon sa siklo ug mas taas nga abot.


Teknikal nga mga Detalye
     

● -Istruktura: FCC β phase polycrystaline, kasagaran (111)oriented
● -Densidad: 3.21 g/cm³
● -Katig-a: 2500 Vickes katig-a (500g load)
● -Katig-a sa Bali: 3.0 MPa·m1/2
● -Thermal Expansion Coefficient (100–600 °C): 4.3 x 10-6k-1
● -Elastic Modulus(1300 ℃):435 GPa
● -Tipikal nga Gibag-on sa Pelikula:100 µm
● -Pagkagahi sa nawong:2-10 µm


Data sa Kaputli (Gisukod pinaagi sa Glow Discharge Mass Spectroscopy)

elemento

ppm

elemento

ppm

Li

< 0.001

Cu

< 0.01

Be

< 0.001

Zn

< 0.05

Si Al

< 0.04

Ga

< 0.01

P

< 0.01

Ge

< 0.05

S

< 0.04

As

< 0.005

K

< 0.05

In

< 0.01

Ca

< 0.05

Sn

< 0.01

Ti

< 0.005

Sb

< 0.01

V

< 0.001

W

< 0.05

Cr

< 0.05

Te

< 0.01

Mn

< 0.005

Pb

< 0.01

Fe

< 0.05

Bi

< 0.05

Ni

< 0.01

 

 
Pinaagi sa paggamit sa cutting-edge nga teknolohiya sa CVD, kami nagtanyag nga gipahaumSiC coating nga mga solusyonaron matubag ang dinamikong panginahanglan sa among mga kliyente ug pagsuporta sa mga pag-uswag sa paghimo sa semiconductor.

 

123456Sunod >>> Pahina 1 / 8